光罩（Reticle/Mask）：在製作IC的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩做用原理：如圖沖洗照片時，利用底片將影像複製至相片上。
實體結構：佈滿積體電路圖像的鉻金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像。
倍縮光罩（Reticle）：當鉻膜玻璃僅能局部覆蓋晶圓稱為倍縮光罩，通常圖型要放大4倍、5倍或10倍。
光罩（Mask）：當鉻膜玻璃上的圖像能覆蓋整個晶圓時稱之為光罩。
光罩分類：相位移光罩、二元光罩
