光罩(英文:Reticle, Mask):在製作IC的過程中,利用光蝕刻技術,在半導體上形成圖型,為將圖型複製於晶圓上,必須透過光罩做用的原理[1]。比如沖洗照片時,利用底片將影像複製至相片上。
結構 [编辑]
- 實體結構:佈滿積體電路圖像的鉻金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像。
- 倍縮光罩(Reticle):當鉻膜玻璃僅能局部覆蓋晶圓稱為倍縮光罩,通常圖型要放大4倍、5倍或10倍。
- 光罩(Mask):當鉻膜玻璃上的圖像能覆蓋整個晶圓時稱之為光罩。
種類 [编辑]
相位移光罩、二元光罩
参考文献 [编辑]