四碘化硅
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| 四碘化硅 | |||
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| 别名 | silicon tetraiodide Tetraiodosilane |
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| 识别 | |||
| CAS号 | 13465-84-4 | ||
| PubChem | 83498 | ||
| ChemSpider | 75335 | ||
| SMILES |
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| InChI |
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| InChIKey | CFTHARXEQHJSEH-UHFFFAOYAL | ||
| 性质 | |||
| 化学式 | SiI4 | ||
| 摩尔质量 | 535.7034 g·mol−1 | ||
| 外观 | 白色粉末 | ||
| 密度 | 4.198 g/cm3 | ||
| 熔点 | 120.5 °C（394 K） | ||
| 沸点 | 287.4 °C（561 K） | ||
| 溶解度（水） | 不溶 | ||
| 溶解度（有机溶剂） | 可溶 | ||
| 结构 | |||
| 分子构型 | 正四面体 | ||
| 危险性 | |||
| 警示术语 | R：R61-R24/25-R34-R42/43 | ||
| 安全术语 | S：S53-S26-S36/37/39-S45 | ||
| 欧盟分类 | 未列出 | ||
| NFPA 704 |
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2
0
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| 闪点 | -18 °C | ||
| 若非注明，所有数据均出自一般条件（25 ℃，100 kPa）下。 | |||
四碘化硅是一种无机化合物，化学式为SiI4。它是正四面体形的分子，Si-I键的键长为2.432(5) Å。[1]
SiI4是制备硅酰胺（化学式：Si(NR2)4）的前体。[2]在微电子学它还用于硅的生产与蚀刻。
参考资料 [编辑]
- ^ Kolonits, Maria; Hargittai, Magdolna. Structural Chemistry. 1998, 9 (5): 349. doi:10.1023/A:1022462926682.
- ^ Banerjee, Chiranjib; Wade, Casey R.; Soulet, Axel; Jursich, Gregory; McAndrew, James; Belot, John A. Direct syntheses and complete characterization of halide-free tetrakis(dialkylamino)silanes. Inorganic Chemistry Communications. 2006, 9 (7): 761. doi:10.1016/j.inoche.2006.04.027.
外部链接 [编辑]
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