物理气相沉积

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物理气相沉积英语Physical vapor depositionPVD)是一種工業製造上的工藝,是主要利用物理过程来沉积薄膜的技术,即真空鍍膜,多用在鈑金件、蝕刻件、擠壓件、金屬射出成型(MIM)、粉末射出成型(PIM)、機加件和焊接件等零件的工藝上。

化学气相沉积相比,物理气相沉积适用范围广泛,几乎所有材料的薄膜都可以用物理气相沉积来制备,但是薄膜厚度的均匀性是物理气相沉积中的一个问题。

主要的物理气相沉积的方法有:

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