90纳米制程

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90纳米制程半导体制造制程的一个水平,大约于2004年至2005年左右达成。[1][2] 这个是由当时的领先半导体公司如英特尔AMD英飞凌德州仪器IBM台積電所完成。

许多厂商使用了193纳米的波长来进行关键层级的光刻

此外,12英寸圆晶在这个制程上成为主流。

具有130纳米制程的产品[编辑]

参考文献[编辑]

  1. ^ Mueller, S. Microprocessors from 1971 to the Present. informIT. 2006-07-21 [2012-05-11]. (原始内容存档于2015-04-27). 
  2. ^ Myslewski, R. Happy 40th birthday, Intel 4004!. TheRegister. 2011-11-15 [2015-04-19]. (原始内容存档于2015-04-27). 
先前
130纳米制程
半导体器件制造制程 其後
65纳米制程