脉冲激光沉积

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脈衝雷射沉積(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被稱為脈衝雷射燒蝕(pulsed laser abalation,PLA)為物理氣相沉積的一種(Physical Vapor Deposition,PVD)

是一種利用聚焦後的高功率脈衝雷射於真空腔體中對靶材進行轟擊,由於雷射能量極強,會將靶材汽化形成電漿蕈狀團(plasma plume),並沉澱於基板上形成薄膜。

於鍍膜可於高真空超高真空或通入工作氣體(如欲沉積氧化物薄膜,通常會通入氧氣作為其工作氣體)的環境下進行。

於脈衝雷射沉積的過程中,雷射的能量被靶材吸收之後,能量首先激發靶材內部的電子躍遷,之後再轉成熱能等使靶材汽化形成電漿態,於電漿雲中,包含分子原子電子離子、微粒、融球體等物質。