光譜燒孔

光譜燒孔（Spectral hole burning）是對材料吸收光譜特定頻率的選擇性漂白後，導致材料的吸收譜在特定頻譜範圍內的傳輸性能增加的效應，也就是所謂的「光譜孔」。

這種效應的產生須滿足以下兩個要求：

1. 材料的光譜應當是非均勻展寬（非均勻加寬）的；
2. 通過對光的吸收，這種物質的光譜會發生改變。滿足要求的典型材料包括：溶解在合適的基質中的染料分子；頻率選擇性測試通常通過窄帶激光實現。

特別情形

大多數分子和原子的狀態總是從激發態返回到基態，但某些情況下存在例外。例如，一些有機染料分子可能會發生光化學反應，這將改變分子的化學結構。如果這種光化學活性分子吸收光，那麼它將有可能不會返回到初始的離析狀態，而轉變成處於基態的新產物。通常，新產物的均勻吸收譜與離析物的均勻吸收譜迥乎不同，並且相應的非均勻展寬邊帶並不重疊。

光譜燒孔的寬度可以表述如下：

$\nu _{H}={\frac {\nu _{h}}{2}}\left(1+{\frac {I_{V}}{I_{S}(\nu _{0})}}\right)$

其中， $\nu _{H}$ 是光譜燒孔的寬度， $\nu _{h}$ 是均勻線寬， $\nu _{0}$ 是中心頻率， $I_{S}$ 是飽和強度。

參考

• http://www.iupac.org/publications/pac/pdf/1995/pdf/6701x0191.pdf （頁面存檔備份，存於互聯網檔案館）
• http://www.physics.montana.edu/arebane/research/tutorials/hole_burning/index.html （頁面存檔備份，存於互聯網檔案館）
• Spectral hole burning: Spontaneous and photoinduced tunneling reactions in low temperature solids: https://pdfs.semanticscholar.org/0147/cbc7d677e98cee616083d87432247c849813.pdf