欠電勢沉積

維基百科,自由的百科全書

欠電勢沉積 (Underpotential Deposition, UPD) 是指在平衡電位以上發生的電沉積英語Electrodeposition現象,其中最常見的是金屬離子沉積為金屬。

目前認為,欠電勢沉積是發生沉積的金屬M與電極表面的底物S之間強相互作用的結果。發生欠電勢沉積的前提是M-S之間的作用力比起純金屬M的晶體中的M-M作用力更強。實驗觀察到的欠電勢沉積主要是單層的,這為上面的機理提供了支持。

欠電勢沉積在單晶表面比在多晶表面要顯著得多。[1]

參考資料[編輯]

  1. ^ J.O"M.Bockris, A.K.N.Reddy and M.Gamboa-Aldeco, "Modern Electrochemistry", 2nd edition, Volume 2A, Kluwer Academic/Plenum Publishers, 2000.