圖奧莫·松托拉
外觀
圖奧莫·松托拉 Tuomo Suntola | |
---|---|
Tuomo Suntola | |
出生 | 1943年![]() |
國籍 | ![]() |
母校 | 赫爾辛基理工大學 |
知名於 | 原子層沉積 |
獎項 | 千禧年科技獎(2018年)![]() |
科學生涯 | |
研究領域 | 材料科學 |
圖奧莫·松托拉(芬蘭語:Tuomo Suntola,1943年—),芬蘭發明家和技術領先人物,以其在材料科學方面的開拓性研究而著稱。他開發了名為「原子層沉積」的薄膜增長技術,並因該技術獲得了2018年的千禧年科技獎[1]。
參考文獻
[編輯]- ^ 2018 MILLENNIUM TECHNOLOGY PRIZE FOR TUOMO SUNTOLA – FINNISH PHYSICIST'S INNOVATION ENABLES MANUFACTURE AND DEVELOPMENT OF INFORMATION TECHNOLOGY PRODUCTS. Technology Academy Finland. 2018-05-22 [2018-05-22]. (原始內容存檔於2020-10-02) (芬蘭語).
外部連結
[編輯]- 個人網站(頁面存檔備份,存於互聯網檔案館) (英文)
- Riikka L. Puurunen: A Short History of Atomic Layer Deposition: Tuomo Suntola's Atomic Layer Epitaxy (頁面存檔備份,存於互聯網檔案館) (英文)
- Physics Foundations Society: Tuomo Suntola(頁面存檔備份,存於互聯網檔案館) (英文)
- Physics Foundations Society: The Dynamic Universe(頁面存檔備份,存於互聯網檔案館) (英文)
|
|