四(三甲基硅基)硅烷
外观
四(三甲基硅基)硅烷 | |
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IUPAC名 1,1,1,3,3,3-Hexamethyl-2,2-bis(trimethylsilyl)trisilane | |
识别 | |
CAS号 | 4098-98-0 |
PubChem | 138115 |
ChemSpider | 121756 |
SMILES |
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性质 | |
化学式 | C12H36Si5 |
摩尔质量 | 320.84 g·mol−1 |
外观 | 无色固体 |
密度 | 0.806 g/cm3 |
熔点 | 319-321 °C(封管) |
危险性 | |
GHS危险性符号 | |
GHS提示词 | 警告 |
H-术语 | H315, H319, H335 |
P-术语 | P261, P264, P271, P280, P302+352, P304+340, P305+351+338, P312, P321, P332+313, P337+313, P362, P403+233, P405 |
若非注明,所有数据均出自标准状态(25 ℃,100 kPa)下。 |
四(三甲基硅基)硅烷是一种有机硅化合物,化学式为(Me3Si)4Si(其中Me = CH3)。它是无色固体,具有高熔点,可升华。它可由三甲基氯硅烷、四氯化硅和锂反应制得:[1][2]
- 4 Me3SiCl + SiCl4 + 8 Li → (Me3Si)4Si + 8 LiCl
- (Me3Si)4Si + MeLi → (Me3Si)3SiLi + Me4Si
参考文献
[编辑]- ^ Gilman, H.; Smith, C. L. Tetrakis(trimethylsilyl)silane. Journal of Organometallic Chemistry. 1967, 8 (2): 245–253. doi:10.1016/S0022-328X(00)91037-4.
- ^ 2.0 2.1 Joachim Dickhaut, Bernd Giese. Tris(trimethylsilyl)silane. Org. Synth. 1992, 70: 164. doi:10.15227/orgsyn.070.0164.
- ^ Nathan J. Lin; Diana Perales; Ellen M. Matson; Matthias Zeller; Suzanne C. Bart. Lewis Base Activation by Uranium(III) Complexes. Organometallics 2023, 42, 8, 641–650. doi:10.1021/acs.organomet.2c00633.