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File:Pulsed Laser Deposition in Action.jpg

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原始文件 (2,782 × 3,952像素,文件大小:4.22 MB,MIME类型:image/jpeg


摘要

描述
English: Thin films of oxides are deposited with atomic layer precision using pulsed laser deposition. A high-intensity pulsed laser is shooting onto the rotating white target consisting of Al2O3 (alumina). The laser pulse creates a plasma explosion visible as the purple cloud. The plasma cloud expands towards the square substrate, consisting of SrTiO3 (strontium titanate), where it deposits thin layers of alumina, one atomic layer at a time. This results in a conducting interface between the two materials which are otherwise insulating. The substrate is mounted on a heating plate, glowing red from a temperature of 650 ºC, to improve the crystallinity of the alumina thin film.
日期
来源 自己的作品
作者 Adam Andersen Læssøe

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创作作者 简体中文(已转写)

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作者姓名字符串 简体中文(已转写):​Adam Andersen Læssøe
维基媒体用户名 简体中文(已转写):​Aalasso

版权状态 简体中文(已转写)

版权所有 简体中文(已转写)

文件来源 简体中文(已转写)

上传者的原创作品 简体中文(已转写)

数据大小 简体中文(已转写)

4,421,752 字节

3,952 像素

2,782 像素

媒体类型 简体中文(已转写)

image/jpeg

校验和 简体中文(已转写)

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断定方法:​SHA-1 简体中文(已转写)

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当前2015年11月30日 (一) 07:322015年11月30日 (一) 07:32版本的缩略图2,782 × 3,952(4.22 MB)AalassoUser created page with UploadWizard

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