圖奧莫·松托拉
| 圖奧莫·松托拉 Tuomo Suntola Tuomo Suntola | |
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| 出生 | 1943年 芬蘭坦佩雷 |
| 國籍 | 芬蘭 |
| 母校 | 赫爾辛基理工大學 |
| 知名於 | 原子層沉積 |
| 獎項 | 千禧年科技獎（2018年） |
| 科學生涯 | |
| 研究領域 | 材料科學 |
圖奧莫·松托拉（芬蘭語：Tuomo Suntola，1943年—），芬蘭發明家和技術領先人物，以其在材料科學方面的開拓性研究而著稱。他開發了名為「原子層沉積」的薄膜增長技術，並因該技術獲得了2018年的千禧年科技獎[1]。
參考文獻
[編輯]- ^ 2018 MILLENNIUM TECHNOLOGY PRIZE FOR TUOMO SUNTOLA – FINNISH PHYSICIST'S INNOVATION ENABLES MANUFACTURE AND DEVELOPMENT OF INFORMATION TECHNOLOGY PRODUCTS. Technology Academy Finland. 2018-05-22 [2018-05-22]. （原始內容存檔於2020-10-02） （芬蘭語）.
外部連結
[編輯]- 個人網站（頁面存檔備份，存於網際網路檔案館） （英文）
- Riikka L. Puurunen: A Short History of Atomic Layer Deposition: Tuomo Suntola's Atomic Layer Epitaxy （頁面存檔備份，存於網際網路檔案館） （英文）
- Physics Foundations Society: Tuomo Suntola（頁面存檔備份，存於網際網路檔案館） （英文）
- Physics Foundations Society: The Dynamic Universe（頁面存檔備份，存於網際網路檔案館） （英文）
