X光散射技术

X光散射技术或X射线衍射技术（英語：X-ray scattering techniques）是一系列常用的非破壞性分析技術，可用於揭示物質的晶體結構、化學組成以及物理性質。这些技术都是以观测X射线穿过样品后的散射强度为基础，并根据散射角度、极化度和入射X光波长对实验结果进行分析。X光散射技术可在許多不同的條件下進行分析，例如不同的溫度或壓力。

X光繞射技术

X光繞射（X-ray diffraction）技术可以用于研究分子的构象或形态。X光繞射技术是基于X光在穿过长程有序物质所发生的弹性散射。“繞射动力学理论”对晶体的散射现象给出了更为复杂的描述^[1]。以下列出的是X光繞射的相关技术：

单晶X射线繞射：用于解析晶态物质中分子的整体结构，研究范围可以从小的无机小分子到复杂的大分子，如蛋白质；可用单色性X光（德拜法）或连续波长X光（即“劳厄法”）进行研究。
粉末衍射：也是一种获得晶体（微晶）结构的方法，所用样品为多晶态或粉末固态晶体。粉末繞射通常用于鉴定未知物质，主要通过将衍射数据与繞射数据国际中心（International Centre for Diffraction Data，ICDD）中的繞射数据库进行比较。这一技术或可用于鉴定非均一态的固体混合物，确定其中含量相对丰富的晶态物质；而且，当与网格修正技术（如Rietveld修正）连用时，还可以提供未知物质的结构信息。粉末繞射也是确定晶态物质晶系的常用方法，并可用于测定晶体颗粒的大小。
薄膜繞射。
X射线极图分析：用于分析和测定晶态薄膜样品中晶态方位。
X射线回摆曲线分析法：用于定量测量晶态物质的粒度大小和镶嵌度散布。

散射技术

弹性散射

即使是非晶态物质（非长程有序），也可能可以用依赖于单色性X光的弹性散射的方法来研究：

小角X射线散射：在散射角2θ接近0°时，对样品的X射线散射强度进行测量，以获取纳米到微米量级上的分子结构信息。^[2]
X射线反射率：用于分析和测定单层或多层薄膜的厚度、粗糙度和密度。^[3]
广角X射线散射：测量散射角2θ大于5°。

非弹性散射

当非弹性散射的X射线的能量和角度被监测时，相关的散射技术就可以用于探测物质的能带结构：

参考文献

^ （英文）Azároff, L. V.; R. Kaplow, N. Kato, R. J. Weiss, A. J. C. Wilson, R. A. Young. X-ray diffraction. McGraw-Hill. 1974.
^ （英文）Glatter, O.; O. Kratky. Small Angle X-ray Scattering. Academic Press. 1982 [2008-01-24]. （原始内容存档于2012-02-11）.
^ （英文） Holy, V. et al. Phys. Rev. B. 47, 15896 (1993).

參見

外部連結

[1] （英文）Azároff, L. V.; R. Kaplow, N. Kato, R. J. Weiss, A. J. C. Wilson, R. A. Young. X-ray diffraction. McGraw-Hill. 1974.

[2] （英文）Glatter, O.; O. Kratky. Small Angle X-ray Scattering. Academic Press. 1982 [2008-01-24]. （原始内容存档于2012-02-11）.

[3] （英文） Holy, V. et al. Phys. Rev. B. 47, 15896 (1993).

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