三甲基硅烷
| 三甲基硅烷 | |||
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| 识别 | |||
| CAS号 | 993-07-7 
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| ChemSpider | 63614 | ||
| SMILES |
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| 性质 | |||
| 化学式 | C3H10Si | ||
| 摩尔质量 | 74.2 g·mol−1 | ||
| 密度 | 0.638 g cm-3 | ||
| 熔点 | -135.9 °C（137 K） | ||
| 沸点 | 6.7 °C（280 K） | ||
| 危险性 | |||
| 警示术语 | R：R12, R36/37/38 | ||
| 安全术语 | S：S9, S16, S26, S33 | ||
| 欧盟分类 |  F
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| NFPA 704 |
 4
2
1
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| 若非注明，所有数据均出自标准状态（25 ℃，100 kPa）下。 | |||
三甲基硅烷或三甲基硅化氢，是一种有机硅化合物，化学式为C3H10Si，结构简式(CH3)3SiH。它是一种极易燃的物质。三甲基硅烷用于半导体工业中的等离子相腐蚀剂。[1]
参见
[编辑]参考资料
[编辑]- ^ Chen, Sheng-Wen; Wang, Yu-Sheng; Hu, Shao-Yu; Lee, Wen-Hsi; Chi, Chieh-Cheng; Wang, Ying-Lang. A Study of Trimethylsilane (3MS) and Tetramethylsilane (4MS) Based α-SiCN:H/α-SiCO:H Diffusion Barrier Films. Materials. 2012, 5 (3): 377. doi:10.3390/ma5030377.
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