小注入
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小注入(英語:low level injection)是形成PN接面的一種工作條件。在N型半導體中,當注入半導體材料的非平衡電子(通過光照注入、電注入等方法引入的兩種載子——電子、電洞總是成對出現)的濃度小於平衡時導帶中電子的濃度時,我們稱這種方法為小注入。對於P型半導體,則需要比較非平衡電洞與平衡時的電洞的濃度。在小注入的情況下,多數載子的複合率為線性。[1]
參考文獻
[編輯]- ^ Jenny Nelson, The Physics of Solar Cells, Imperial College Press, UK, 2007 pp. 266-267