李天和
外观
李天和(Thomas H. Lee,1923年5月11日—2001年2月4日)[1]是一位美国华裔电工科学家。
生平
1923年出生于扬州个园,早年曾就读于上海市南洋模范中学,后考入交通大学并于1946年毕业。此后赴美国留学,1950年获联合学院(Union College)电工硕士学位。1954年又获伦斯勒理工学院博士学位。他于1948年起进入通用电气公司任职,曾于1970年代出任通用电气公司电力业务总战略设计师、电力系统总工程师等职。此后任教于麻省理工学院电机系。
荣誉
他是电气电子工程师学会(IEEE)高级会员。1975年当选美国国家工程院院士。1981年当选美国科学促进协会高级会员。1984年出任国际应用系统分析研究所(IIASA)所长。1986年当选瑞士工程科学院通讯院士。2000年又当选中国工程院外籍院士。
参考资料
- ^ Lee, founder of CQM, dies at 77. MIT News. 2001-02-14 [2020-01-21]. (原始内容存档于2020-12-02).
外部链接
- Thomas H. Lee (页面存档备份,存于互联网档案馆) on Engineering and Technology History Wiki