林本坚
林本坚 （1942年—），廣東潮安人，生於越南，為中華民國出身的电机工程师。
生平
1942年出生于越南堤岸，在當地的中華民國僑校完成小學、中學至高二，1959年以僑生身分插班进入臺灣省立新竹中學高中三年級，1963年毕业于国立台湾大学電機工程學系，后留学美国，1970年毕业于俄亥俄州立大学获得电机工程学博士。[1][2]后任职于IBM，1984年担任研发部经理。[3][4] 1992年从IBM提前退休并同年创立领创公司担任总经理，2000年回到台湾加入台积电。[5]2002年研发出193纳米浸润式微影技术，2015年从台积电退休后，担任国立清华大学教授。[6][7][8]
荣誉
- 2003年被选为电气电子工程师学会会士和国际光电工程学会会士。[6]
- 2008年被选为美国国家工程院院士。[9]
- 2013年获得IEEE西泽润一奖。[2][4]
- 2014年被选为中央研究院院士。[6]
- 2018年获得未来科学大奖数学与计算机科学奖。
参考来源
- ^ 蒙天祥. 僑生之光 林本堅榮膺中研院院士 (pdf). 僑協雜誌 (華僑協會總會). 2014年9月, (148): 37–39 [2021-01-22]. ISSN 1029-3167.
- ^ 2.0 2.1 ECE Alum Burn Lin receives IEEE Jun-ichi Nishizawa Medal. Ohio State University. 30 April 2013 [2 December 2018].
- ^ Burn J. Lin (1987). "The future of subhalf-micrometer optical lithography". Microelectronic Engineering 6, 31–51
- ^ 4.0 4.1 Handy, Jim. Father of Immersion Litho Receives Award. Forbes. 26 June 2013 [2 December 2018].
- ^ Biography: Burn J. Lin. Semiconductor Research Corporation. [2 December 2018].
- ^ 6.0 6.1 6.2 Semiconductor Pioneer Burn Lin Joins NTHU. National Tsing Hua University. 2016 [2 December 2018].
- ^ TSMC Burn Lin Academic Salon. 2016 [2 December 2018].
- ^ 没有他，就没有今天的台积电 ，搜狐新闻。
- ^ Dr. Burn Jeng Lin. United States National Academy of Engineering. [2 December 2018].
| ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| ||||||||||||||||||||||
