林本坚

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林本坚 (1942年),廣東潮安人,生於越南華僑家庭中,為台積電出身的电机工程师。

生平[编辑]

1942年出生于越南堤岸,在當地的中華民國僑校完成小學、中學至高二,1959年以僑生身分插班进入臺灣省立新竹中學高中三年級,1963年毕业于国立台湾大学電機工程學系,后留学美国,1970年毕业于俄亥俄州立大学获得电机工程学博士。[1][2]后任职于IBM,1984年担任研发部经理。[3][4] 1992年从IBM提前退休并同年创立领创公司担任总经理,2000年回到台湾加入台积电[5]2002年研发出193纳米浸润式微影技术,後該技術為ASML看重並得到採用,2015年从台积电退休后,担任国立清华大学教授。[6][7][8]他同時本身是一位虔誠的基督徒。[9]

荣誉[编辑]

参考来源[编辑]

  1. ^ 蒙天祥. 僑生之光 林本堅榮膺中研院院士 (pdf). 僑協雜誌 (華僑協會總會). 2014年9月, (148): 37–39 [2021-01-22]. ISSN 1029-3167. 
  2. ^ 2.0 2.1 ECE Alum Burn Lin receives IEEE Jun-ichi Nishizawa Medal. Ohio State University. 30 April 2013 [2 December 2018]. 
  3. ^ Burn J. Lin (1987). "The future of subhalf-micrometer optical lithography". Microelectronic Engineering 6, 31–51
  4. ^ 4.0 4.1 Handy, Jim. Father of Immersion Litho Receives Award. Forbes. 26 June 2013 [2 December 2018]. 
  5. ^ Biography: Burn J. Lin. Semiconductor Research Corporation. [2 December 2018]. 
  6. ^ 6.0 6.1 6.2 Semiconductor Pioneer Burn Lin Joins NTHU. National Tsing Hua University. 2016 [2 December 2018]. 
  7. ^ TSMC Burn Lin Academic Salon. 2016 [2 December 2018]. 
  8. ^ 没有他,就没有今天的台积电 ,搜狐新闻。
  9. ^ https://ec.ltn.com.tw/article/breakingnews/2992386
  10. ^ Dr. Burn Jeng Lin. United States National Academy of Engineering. [2 December 2018].