林本坚

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林本坚 (英語:Burn-Jeng Lin, 1942年)是一位台湾电机工程师。

生平[编辑]

1942年出生于越南,后1959年进入国立新竹高级中学,1963年毕业于国立台湾大学,后留学美国,1970年毕业于俄亥俄州立大学获得电机工程学博士。[1]后任职于IBM,1984年担任研发部经理。[2][3] 1992年从IBM提前退休并同年创立领创公司担任总经理,2000年回到台湾加入台积电[4]2002年研发出193纳米浸润式微影技术,2015年从台积电退休后,担任国立清华大学教授。[5][6][7]

荣誉[编辑]

参考来源[编辑]

  1. ^ 1.0 1.1 ECE Alum Burn Lin receives IEEE Jun-ichi Nishizawa Medal. Ohio State University. 30 April 2013 [2 December 2018]. 
  2. ^ Burn J. Lin (1987). "The future of subhalf-micrometer optical lithography". Microelectronic Engineering 6, 31–51
  3. ^ 3.0 3.1 Handy, Jim. Father of Immersion Litho Receives Award. Forbes. 26 June 2013 [2 December 2018]. 
  4. ^ Biography: Burn J. Lin. Semiconductor Research Corporation. [2 December 2018]. 
  5. ^ 5.0 5.1 5.2 Semiconductor Pioneer Burn Lin Joins NTHU. National Tsing Hua University. 2016 [2 December 2018]. 
  6. ^ TSMC Burn Lin Academic Salon. 2016 [2 December 2018]. 
  7. ^ 没有他,就没有今天的台积电 ,搜狐新闻。
  8. ^ Dr. Burn Jeng Lin. United States National Academy of Engineering. [2 December 2018].