三碘甲矽烷
| 三碘甲矽烷 | |
|---|---|
| |
| 別名 | 矽代碘仿 |
| 識別 | |
| CAS號 | 13465-72-0 
|
| PubChem | 139463 |
| SMILES |
|
| 性質 | |
| 化學式 | SiHI 3 |
| 莫耳質量 | 409.81 g·mol⁻¹ |
| 外觀 | 無色液體[1] |
| 密度 | 3.31 g·cm−3[2] |
| 熔點 | 8 °C[3] |
| 沸點 | 220 °C (分解)[3] |
| 溶解性（水） | 分解[4] |
| 溶解性 | 可溶於苯和二硫化碳[4] |
| 若非註明，所有數據均出自標準狀態（25 ℃，100 kPa）下。 | |
三碘甲矽烷是一種鹵代甲矽烷，化學式 SiHI
3。
製備
[編輯]三碘甲矽烷可以由三氯甲矽烷和苯胺的苯溶液和碘化氫的兩步反應而成。[1]
![{\displaystyle \mathrm {SiHCl_{3}+6\ C_{6}H_{5}NH_{2}\longrightarrow SiH(NHC_{6}H_{5})_{3}+3\ [C_{6}H_{5}NH_{3}]Cl} }](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/3a9cbd346c81a870174f429dd08b5d6a5a7c2871)
![{\displaystyle \mathrm {SiH(NHC_{6}H_{5})_{3}+6\ HI\longrightarrow SiHI_{3}+3\ [C_{6}H_{5}NH_{3}]I} }](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/d8650c2bf7c727c58d1069bde57308c8ae8a90eb)
三碘甲矽烷也可以由矽和碘化氫反應而成，類似三溴甲矽烷，不過量很少。[1] 這個反應在1857年三溴甲矽烷首次合成時，就被弗里德里希·維勒和Heinrich Buff描述了。[5]
它也可以由三苯甲矽烷和碘化氫反應而成。這個反應由氯化鋁催化。[7]
性質
[編輯]用處
[編輯]參考資料
[編輯]- ^ 1.0 1.1 1.2 1.3 Georg Brauer (Hrsg.), unter Mitarbeit von Marianne Baudler u. a.: Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie. 3., umgearbeitete Auflage. Band II, Ferdinand Enke, Stuttgart 1978, ISBN 3-432-87813-3, S. 688.
- ^ Griffin, Bohn and Company. The Chemical News and Journal of Industrial Science; with which is Incorporated the "Chemical Gazette." A Journal of Practical Chemistry in All Its Applications to Pharmacy, Arts and Manufactures. Chemical news office. 1868: 76.
- ^ 3.0 3.1 William M. Haynes. CRC Handbook of Chemistry and Physics, 93rd Edition. CRC Press. 2016: 88. ISBN 978-1-4398-8050-0.
- ^ 4.0 4.1 4.2 R. Blachnik. Taschenbuch für Chemiker und Physiker Band 3: Elemente, anorganische Verbindungen und Materialien, Minerale. Springer-Verlag. 2013: 730. ISBN 978-3-642-58842-6.
- ^ H. Buff, F. Wöhler, Ueber neue Verbindungen des Siliciums, Annalen der Chemie und Pharmacie. 1857, 104 (1): pp. 94-109, （德文）
- ^ E. G. Rochow. The Chemistry of Silicon Pergamon International Library of Science, Technology, Engineering and Social Studies. Elsevier. 2013: 1371. ISBN 978-1-4831-8755-6.
- ^ 7.0 7.1 G. Tamizhmani, Michael Cocivera, Richard T. Oakley, Paul Del Bel Belluz: Some physical properties of undoped amorphous silicon prepared by a new CVD process using iodosilanes. In: Chemistry of Materials. 2, 1990, S. 473, doi:10.1021/cm00010a029.
- ^ Patent WO1984000353A1 – Ultra-pure epitaxial silicon （頁面存檔備份，存於網際網路檔案館）, abgerufen am 13. Dezember 2016.