物理氣相沉積

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物理氣相沉積(英語:Physical vapor depositionPVD)是一種工業製造上的工藝,是主要利用物理過程來沉積薄膜的技術,即真空鍍膜(蒸鍍),多用在切削工具與各種模具的表面處理,以及半導體裝置的製作工藝上。

化學氣相沉積相比,物理氣相沉積適用範圍廣泛,幾乎所有材料的薄膜都可以用物理氣相沉積來製備,但是薄膜厚度的均勻性是物理氣相沉積中的一個問題。

主要的物理氣相沉積的方法有:

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