ASML

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ASML公司總部

ASML(ASML Holding N.V.)是在荷蘭費爾德霍芬(Veldhoven)的半導體設備製造商。公司同时在欧洲和美国NASDAQ上市。从业员工6580名。在世界14个国家和地区有50个子公司和生产据点。ASML的主要产品是用来生产大规模積體電路的核心设备光刻机(Stepper)。在世界同類產品中有90%的市佔率。

概要[编辑]

1984年從荷蘭著名電器製造商飛利浦獨立,此後致力於大規模積體電路製造設備的研究和製造。根據摩爾定律不斷為提高單位面積集成度作貢獻。2007年已經能夠提供製造37nm線寬積體電路的光刻机(Scanner)。

製造大規模積體電路時要對半導體晶圓曝光3,40次。如何在不降低品質的情況下,減少曝光次數是曝光機的發展方向。ASML使用德國蔡斯公司的光路系統。鏡頭使用螢石石英製造。

曝光機是高附加值產品,一台新的曝光機動輒3000至5000萬美元。但是研發週期長投入資金也相當巨大。

ASML為半導體生產商提供光刻機及相關服務,TWINSCAN系列是目前世界上精度最高,生產效率最高,應用最為廣泛的高端光刻機型。目前全球絕大多數半導體生產廠商,都向ASML採購TWINSCAN機型,例如英特爾(Intel),三星(Samsung),海力士(Hynix),台積電(TSMC),聯電(UMC),格羅方德(GlobalFoundries)及其它台灣十二吋半導體廠。

目前已經商用的最先進機型是Twinscan XT 1950i,每小時單位產出為260片(WPH)12吋晶片,屬於浸潤式(immersion)光刻機,用來生產關鍵尺度低於38納米的集成電路。

除了目前致力於開發的TWINSCAN平台外,ASML還在積極與IBM等半導體公司合作,開發下一代光刻技術,比如EUV(極紫外線光刻),用於關鍵尺度在22納米甚至更低的集成電路製造。目前ASML已經向客戶遞交若干台EUV機型,用於研發和實驗。同時,基於傳統TWINSCAN平台的雙重曝光等新興技術,也在進一步成熟和研發過程當中。 07年末三星(Samsung)宣布成功生產的36nm NAND Flash,基於的便是雙重曝光技術(double patten)。

2012年7月10日英特爾斥資41億美元收購荷蘭晶片設備製造商 ASML的15%股權,另出資10億美元,支持 ASML加快開發成本高昂的晶片製造科技。 先以21億美元,收購 ASML10%股權,待股東批准後,再以10億美元收購5%股權,投注金額將以發展450mm機台以及EUV研發製造10nm技術為兩大主軸。

2012年8月5日台積電宣佈加入荷蘭艾司摩爾公司所提出的「客戶聯合投資專案」(Customer Co-Investment Program),根據協議,台積電將投資ASML達8.38億歐元,取得ASML約5%股權,未來5年並將投入2.76億歐元,支持ASML的研發計畫。


2012年8月27日三星宣布斥資5.03億歐元入股以荷蘭為基地的晶片商ASML3%股權,並額外注資2.75億歐元合作研發新技術。

2012年10月17日ASML Holding NV (ASML)與Cymer (CYMI)宣布簽訂合併協議,ASML將以19.5億歐元收購Cymer所有在外流通股票,收購Cymer目的在於加速開發Extreme Ultraviolet半導體蝕微影技術,兩家公司董事會一致通過這件交易,Cymer股東將以每股收取20萬美元現金和1.1502股ASML普通股,收購價比Cymer過去30日均價高出61%。

業績[编辑]

  • 2005年銷售額25億2900萬歐元,利潤3億1100萬歐元。
  • 2006年销售額35億9700萬欧元,利潤6億2500萬歐元。生產台數266,簽约機台數334,待生產機台數163。
  • 2007年銷售額38億900萬歐元,利潤6億8800萬歐元。生產台數196,簽约機台數160,待生產機台數95。
  • 2008年銷售額29億5000萬歐元,利潤3億2000萬歐元。
  • 2009年銷售額15億9600萬歐元,利潤1億5000萬歐元。
  • 2010年銷售額45億700萬歐元,利潤10億200萬歐元。
  • 2011年銷售額56億5000萬歐元,利潤14億6600萬歐元。

同業市佔率[编辑]

目前市場上提供量產商用的光刻機廠商有三家:ASML, 尼康(Nikon),佳能(Canon)。根據2007年的統計數據,在中高階光刻機市場,ASML佔據大約60%的市場份額。而最高階市場(immersion),ASML大約目前佔據90%的市場份額。不過,競爭對​​手尼康也在奮力追趕,主要優勢在於相對較低的價格。

2008年ASML在半導體元件設備製造商中超過[東京電子](Tokyo Electron Ltd.)成為世界第2位(VLSI Research)。

以銷售額計算2010年ASML高階曝光機市占率已達到將近90%。

2011年ASML於半導體設備商已超過美廠應用材料(Applied Materials)成為世界第一大半導體設備商。

2012年取得Intel入股15%投入研發450mm新世代EUV機台共同開發協定及投資ASML 8.38億歐元以取得該公司5%股權,同時並承諾未來五年共投入2.76億歐元支持ASML的研發計畫, 三星電子(Samsung Electronics)已加入該公司的「客戶聯合投資專案(Customer Co-Investment Program)」,承諾要在未來五年內對ASML的次世代微影技術(lithography technologies)投入2.76億歐元。這項投資讓上述客戶聯合投資專案得以達成預定的13.8億歐元研發籌款目標。除此之外,三星也承諾要投資5.03億歐元,取得ASML 3%的股權, 上述業者同意以總計 38.5 億歐元買下 ASML 23% 股份。

2012年8月5日 台積電宣布加入半導體設備廠艾司摩爾(ASML)客戶聯合投資專案,盼加速極紫外光(EUV)微影技術與18吋晶圓微影設備開發及量產;根據協議,台積電將投資ASML達8.38億歐元,取得ASML約5%股權,未來5年並將投入2.76億歐元,支持ASML的研發計畫。

2012年10月18日 歐洲半導體設備大廠 ASML Holdings N.V.(艾司摩爾)(ASML-NL),決定以 19.5 億歐元(25億美元)買下美國公司 Cymer(CYMI-US),取得未來製作更小、效能更高晶片所需的關鍵光學技術。

外部联结[编辑]