10微米制程

10 µm制程是半导体制造制程的一个水平，大约于1971年左右达成。^[1]^[2] 这一制程由当时领先的半导体公司如英特尔所完成。

具有10微米制程的产品

^ Mueller, S. Microprocessors from 1971 to the Present. informIT. 2006-07-21 [2012-05-11]. （原始内容存档于2015-04-27）.
^ Myslewski, R. Happy 40th birthday, Intel 4004!. TheRegister. 2011-11-15 [2015-04-19]. （原始内容存档于2015-04-27）.
^ ^3.0 ^3.1 History of the Intel Microprocessor - Listoid. [2015-04-19]. （原始内容存档于2015-04-27）.

先前 -	半导体器件制造制程	其后 6微米制程

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半导体器件制造

金属氧化物半导体场效电晶体
010 µm – 1971 006 µm – 1974 003 µm – 1977 1.5 µm – 1981 001 µm – 1984 800 nm – 1987 600 nm – 1990 350 nm – 1993 250 nm – 1996 180 nm – 1999 130 nm – 2001 090 nm – 2003 065 nm – 2005 045 nm – 2007 032 nm – 2009 022 nm – 2012 014 nm – 2014 010 nm – 2016 007 nm – 2018 005 nm – 2020 003 nm – 2022
未来 002 nm ~ 2024
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