65纳米制程

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65纳米制程半导体制程的一个技術水平。至2007年,英特尔AMDIBM聯華電子特许半导体台积电等公司已有能力进行65纳米制程的量產[1]

当制程进入65纳米之时,用于进行光刻的光的波长是193纳米和248纳米。具有低于光波波长的制造厂要求使用一些特殊技术,比如光学邻近校正和相位移掩膜板技术。此外,12英寸晶圓在此制程開始成为主流。

具有65纳米制程的产品[编辑]

参考文献[编辑]

先前
90纳米制程
半导体器件制造制程 其後
45纳米制程